跳到主要导航
跳到搜索
跳到主要内容
西北工业大学 国内
English
中文
国内
简介
研究单位
科研成果
按专业知识、名称或附属进行搜索
New MOCVD precursor for iridium thin films deposition
Xin Yan,
Qiuyu Zhang
, Xiaodong Fan
化学与化工学院
Northwestern Polytechnical University Xian
科研成果
:
期刊稿件
›
文章
›
同行评审
21
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 'New MOCVD precursor for iridium thin films deposition' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Material Science
Thin Film Deposition
100%
Metal-Organic Chemical Vapor Deposition
16%
Chemical Engineering
Metallorganic Chemical Vapor Deposition
100%