Formation of FeSi and FeSi2 films from cis-Fe(SiCl3)2(CO)4 by MOCVD -precursor versus substrate control

Christian Erich Zybill, Wei Huang

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12 引用 （Scopus）

指纹

探究 'Formation of FeSi and FeSi2 films from cis-Fe(SiCl3)2(CO)4 by MOCVD -precursor versus substrate control' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。

Material Science

Chemistry