Carbon nanometer films prepared by plasma-based ion implantation on single crystalline Si wafer

J. X. Liao, W. M. Liu, T. Xu, Q. J. Xue

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12 引用 （Scopus）

指纹

探究 'Carbon nanometer films prepared by plasma-based ion implantation on single crystalline Si wafer' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。

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