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科研成果
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A dicing-free SOI process for MEMS devices based on the lag effect
J. Xie, Y. Hao, Q. Shen,
H. Chang
,
W. Yuan
机电学院
Northwestern Polytechnical University Xian
科研成果
:
期刊稿件
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文章
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同行评审
13
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 'A dicing-free SOI process for MEMS devices based on the lag effect' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Engineering
Microelectromechanical System
100%
Silicon on Insulator
100%
Deep Reactive Ion Etching
100%
Oxide Layer
66%
Insulating Layer
33%
High Water Pressure
33%
Material Science
Silicon
100%
Microelectromechanical System
100%
Reactive Ion Etching
100%
Oxide Compound
66%